等離子清洗機常用的氣體包括氧氣、氫氣、氮氣和氬氣。
氧氣：等離子清洗機使用氧氣時，通過電離產(chǎn)生離子體，可對材料表面進行物理轟擊，形成粗糙的表面，同時高活性的氧離子可與斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學反應，形成活性基團的親水表面，達到表面活化的目的。
氫氣：氫氣具有還原性，可以用于去除金屬表面的微氧化層，同時不會損壞表面敏感的有機層。
氮氣：氮氣電離形成的等離子體可以與一些分子結(jié)構(gòu)發(fā)生關(guān)鍵反應，因此它也是一種活性氣體，但與氧氣和氫氣相比，它的粒子相對較重。
氬氣：氬氣屬于惰性氣體，等離子清洗使用氬氣時，能夠?qū)Σ牧媳砻姘l(fā)生物理反應，清潔和粗化表面，且不會對基材產(chǎn)生氧化反應，適用于精密金屬元件處理。
具體使用哪種氣體要根據(jù)清洗的用途和實際情況來決定。